Beneq launches Transform XP second-generation ALD platform

24.11.25 20:52 Uhr

Atomic layer deposition (ALD) equipment and solutions firm Beneq of Espoo, Finland has introduced the Transform XP, a second-generation ALD platform developed to meet the performance demands of wide-bandgap (WBG) power and RF device technology development and manufacturing. Building on the proven Transform platform, the new system adds advanced ALD control, faster cycle times, and greater process capabilities in a high-throughput format...Weiter zum vollständigen Artikel bei Semiconductor Today

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Quelle: Semiconductor Today

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